nXLi多级罗茨干式真空泵：
型号：nXL100i、nXL200i
特点：强制空气冷却、单相输入及智能驱动的多级罗茨干式真空泵，能在1-10 mbar的压力范围内提供峰值抽速。
nXDS干式涡旋泵：
型号：nXDS6i、nXDS10i、nXDS15i、nXDS20i
特点：在其他涡旋泵的基础上进行优化，提高了抽速，获得了更限真空、更低功耗和噪声。nXDS-C是改进型，更适用于水蒸气以及某些具有腐蚀性的气体。
XDS干式涡旋泵：
型号：XDS35i/XDS35iE/XDS46i
特点：已成为涡旋干式泵行业标准，适用于各种应用和流程的耐用且清洁的真空泵解决方案。
半导体制造：
在半导体制造过程中，真空泵被用于清洁、干燥和蚀刻等工艺步骤，确保生产过程在无尘、无水的环境下进行。
爱德华真空泵提供了高真空度和低油污染的解决方案，对于要求高度纯净的半导体制造至关重要。
工业制程：
在各种工业制程中，真空泵被用于抽气、排气和输送气体等任务。
爱德华真空泵的性能和可靠性，使其成为许多工业制程中的关键设备。
薄膜沉积：在半导体制造过程中，薄膜沉积是一个关键步骤。爱德华真空泵能够提供高纯度和无尘的环境，确保薄膜沉积的质量和性能。例如，物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）等工艺都需要用到真空泵来创造理想的沉积环境。
离子注入：离子注入是半导体制造中用于改变材料电学性质的重要技术。真空泵用于维持离子注入过程中的真空环境，确保离子注入的准确性和均匀性。
其他半导体工艺：真空泵还广泛应用于半导体制造的多个环节，如光刻、蚀刻、封装等，为这些工艺提供必要的真空环境。
半导体：
爱德华真空泵在半导体制造过程中用于创建和维持高真空环境，以确保制造过程中不会受到气体和杂质的污染。
型号如iH80、iH160、iH1000、iH1800等专为半导体行业设计，满足高精度、高清洁度的需求。
光电子产业：
在光学镀膜、光学仪器、激光设备等领域，爱德华真空泵被用于确保制造过程中的高质量和准确性。
通过能抽气能力，为光电子产业提供稳定的真空环境。
爱德华真空泵在设备中，如成像（MRI）设备中，用于提供必要的真空条件。
其高可靠性和低噪音设计确保了设备的稳定运行和患者的舒适体验
以上信息由专业从事爱德华RV5真空泵维修报价的鑫盛达于2024/7/3 12:19:05发布
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